詳細摘要: 用于生產半導體干法工藝中芯片表面光刻膠的干法去除,并且也可兼做刻蝕工藝
產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言中普尼實業集團(海南)有限公司
詳細摘要: CPND-3型去膠機主要是通過等離子體方法,對陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進行干法去除
產品型號:所在地:??谑?/b>更新時間:2023-06-29 在線留言詳細摘要: CPN-H79-22A型等離子去膠設備用途:用于生產半導體器件干法工藝中的芯表面光刻膠的干法去除,并且也可兼做刻蝕工藝
產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言詳細摘要: 大容量等離子去膠機主要供半導體器件、集成電路生產過程中作等離子去膠工藝用,同時也可兼作刻蝕工藝使用
產品型號:所在地:??谑?/b>更新時間:2023-06-29 在線留言詳細摘要: 一、主要供半導體器件、集成電路生產過程中作等離子去膠工藝用,同時也可兼作刻蝕工藝使用
產品型號:所在地:??谑?/b>更新時間:2023-06-29 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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